磁過濾電弧離子鍍
陰極弧重要的問題就是“大顆粒”污染問題。大顆粒來自于陰極弧斑在靶材表面隨機漂移、燃燒時不斷產(chǎn)生的中性粒子團簇,這些中性粒子團簇與等離子體一起噴發(fā)出來,飛落到正在沉積生長的膜層表面造成表面顆粒污染。這些大顆粒直徑在0.1~100μm之間,許多大顆粒尺寸都超過了膜層本身的厚度。
因此誕生了磁過濾方法,磁過濾是通過磁場控制帶電離子進行偏轉(zhuǎn),只允許一定荷質(zhì)比的粒子通過彎管,其余粒子會因為撞擊到管壁上停下來,從而達到過濾效果。
純源公司的PIC源,即純離子源,便是利用磁過濾原理,使我們允許的C離子到達腔室,其余雜質(zhì)剔除,實現(xiàn)優(yōu)的鍍膜效果。
真空鍍膜設備,PVD鍍膜加工,類金剛石涂層加工,磁控濺射鍍膜機,純離子鍍膜設備
納米薄膜、機電一體化、機電設備、材料科學設備及技術研發(fā)、設計、安裝、維修、服務及銷售。(依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動)
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司,坐落于合肥市高新區(qū)習友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設計、研發(fā)和制造;并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務。公司目前擁有設計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc)、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積(CVD)等領域都...