什么基材可以PVD真空鍍膜
PVD(物理氣相沉積)真空鍍膜技術(shù)的適用性廣泛,可在多種基材表面沉積涂層,但基材需滿足一定條件(如耐受工藝溫度、表面穩(wěn)定性、與涂層的兼容性等)。
(一)金屬基材(常用):金屬基材本身與 PVD涂層的結(jié)合力強(qiáng),且耐高溫性好,是 PVD 鍍膜的主要應(yīng)用對象:優(yōu)勢:金屬表面能高,與涂層結(jié)合力強(qiáng);耐高溫,適配所有 PVD 工藝。
(二)非金屬基材(需特殊處理):非金屬基材需通過預(yù)處理(如表面活化、打底)提升與涂層的結(jié)合力,常見類型包括:(三)電子元器件與陶瓷基片硅片 / 鍺片
陶瓷基片
PVD真空鍍膜 , PVD真空鍍膜設(shè)備
真空鍍膜設(shè)備,PVD鍍膜加工,類金剛石涂層加工,磁控濺射鍍膜機(jī),純離子鍍膜設(shè)備
納米薄膜、機(jī)電一體化、機(jī)電設(shè)備、材料科學(xué)設(shè)備及技術(shù)研發(fā)、設(shè)計、安裝、維修、服務(wù)及銷售。(依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動)
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司,坐落于合肥市高新區(qū)習(xí)友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設(shè)計、研發(fā)和制造;并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務(wù)。公司目前擁有設(shè)計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc)、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學(xué)氣相沉積(CVD)等領(lǐng)域都...