真鍍膜的分類

物理氣相沉積（PVD）：利用物理過程（如熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射）在真空中將固態(tài)材料轉(zhuǎn)化為蒸氣或氣態(tài)粒子，然后在基材表面凝結(jié)成薄膜。

適用于金屬、合金和陶瓷材料的鍍膜，廣泛應(yīng)用于工具、汽車零部件、醫(yī)療器械等領(lǐng)域。

化學(xué)氣相沉積（CVD） ：通過化學(xué)反應(yīng)在基材表面生成薄膜的過程。在 CVD中，氣態(tài)的前驅(qū)體在基材表面分解或反應(yīng)，形成固態(tài)薄膜。

適用于沉積各種類型的材料，如金屬、陶瓷、塑料等。

安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)于2014年創(chuàng)立的高科技公司，坐落于合肥市高新區(qū)長寧社區(qū)服務(wù)中心習(xí)友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設(shè)計(jì)、研發(fā)和制造；并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務(wù)。

公司目前擁有設(shè)計(jì)、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athodeArc）、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beamEvaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學(xué)氣相沉積（CVD）等領(lǐng)域都掌握了國際先進(jìn)技術(shù)；特別是公司自主設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造的純離子鍍膜設(shè)備(PureIon Coating E)能夠制備出性能優(yōu)越的類金剛石膜、金屬膜、金屬化合物膜等。

鍍膜設(shè)備有：純離子鍍膜設(shè)備系列、多元化高致密金屬鍍膜設(shè)備系列、高精模具鍍膜設(shè)備系列、磁控濺射設(shè)備系列、高真空精密光學(xué)薄膜鍍膜設(shè)備系列、反應(yīng)離子刻蝕系列等。

膜層系列有:TAC、DLC、氮化物膜(TiN、CrN、AlCrN等)、碳化物膜(CrC、WC等)、高致密金屬/合金膜和光學(xué)膜層（減反膜、濾光膜、高反膜、紅外膜等）等。

公司裝備及膜層廣泛應(yīng)用于交通工具、切削工具、消費(fèi)電子、紡織機(jī)械、醫(yī)療、新能源和科研等行業(yè)。