AI真空電弧離子鍍膜機
工藝系統(tǒng)：由真空電弧離子鍍膜（ARC）+離子束清洗（IONBEAM）+磁控濺射（SPUTTER）組合而成。
系列設備通過冷陰極真空弧光放電活動中的正離子電流與場電子間的相互影響與制約實現(xiàn)電量遷移。實現(xiàn)高結合力、高硬度、耐磨損、耐腐蝕膜層的沉積。
主要特點
1、 由9個多弧離子鍍膜源+2個陽極層離子束清洗源+2個磁控濺射弧源融合成鍍膜工藝系統(tǒng)；
2、 每個磁控濺射弧源的靶材可以根據(jù)需求應用不同的靶材材質(zhì)；
3、 腔室采用優(yōu)質(zhì)SUS304不銹鋼機身，隱藏式雙層冷卻水冷設計；
4、 合理配備多套新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性；
5、 采用多路進氣系統(tǒng)，精準控制氣體流量，滿足多種化合物膜層需求。
技術優(yōu)勢
1、 致密、粘附性好；重復性高、均勻性好；
2、 高穩(wěn)定性；高功率；維護方便；有效水冷設計，靶材可以連續(xù)24小時工作；
3、 腔體接口通用尺寸，互換性強，優(yōu)化升級方便；
4、 磁控濺射源與陰極弧源都采用專利的磁場設計和布氣方式，極大地提高了有效鍍膜空間和膜層均勻性；
5、 實時記錄歷史數(shù)據(jù)和分析數(shù)據(jù)曲線，對品質(zhì)管理管控和工藝開發(fā)有明顯幫助；
6、 全自動控制，一鍵式操作，友好的人機界面，實時記錄工藝數(shù)據(jù)，利于質(zhì)量管控、疑難分析、開發(fā)新工藝等；
7、 模塊化工藝配方，靈活設定各級配方，一鍵式操作即可完成多層工藝配方。
真空鍍膜設備，PVD鍍膜加工，類金剛石涂層加工，磁控濺射鍍膜機，純離子鍍膜設備
納米薄膜、機電一體化、機電設備、材料科學設備及技術研發(fā)、設計、安裝、維修、服務及銷售。（依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動）
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司，坐落于合肥市高新區(qū)習友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設計、研發(fā)和制造；并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務。公司目前擁有設計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc）、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積（CVD）等領域都...