純?cè)村兡た萍加邢薰緭碛卸囗?xiàng)核心技術(shù)，自主研發(fā)出純離子鍍膜設(shè)備、離子清洗刻蝕機(jī)以及磁控濺射設(shè)備等多項(xiàng)專利產(chǎn)品，開發(fā)出Ta-C、DLC碳基薄膜，低溫氮化物和碳化物膜（TiN,TiSiN,ClAlSiN,CrN，TiC,CrC，CrWC等），以及高致密的金屬/合金薄膜等，應(yīng)用領(lǐng)域從交通工具到光學(xué)產(chǎn)品，從大眾消費(fèi)電子到國(guó)防及科研院所，從電子元器件到新能源新材料行業(yè)。

      公司成立至今，獲得多項(xiàng)榮譽(yù)資質(zhì)，于2017年、2020年、2021年三次入選《安徽省首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備名單》。純?cè)村兡づc合肥工業(yè)大學(xué)成立“納米膜層與裝備聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室”，與上海交通大學(xué)簽署共建“純離子鍍膜技術(shù)聯(lián)合研發(fā)中心”。

       以下介紹純?cè)村兡た萍加邢薰鹃_發(fā)出的兩種主要涂層：

①Ta-C和DLC碳基薄膜

        當(dāng)碳元素通過(guò)SP3鍵結(jié)合，就會(huì)形成金剛石；通過(guò)SP2鍵結(jié)合，就會(huì)形成石墨。類金剛石薄膜性能介于金剛石和石墨之間，根據(jù)SP3鍵的含量不同可以分為Ta-C(四面體非晶碳)和DLC（類金剛石）薄膜。Ta-C涂層是無(wú)氫且SP3鍵的含量高的膜層，與通常的DLC膜層相比，Ta-C膜層具有更高的硬度和致密性，耐高溫、耐腐蝕性能。Ta-C膜層硬度可達(dá)55GPa,而DLC的硬度在20GPa以下，Ta-C的Zui高工作溫度可達(dá)650℃，而DLC通常只能在300℃溫度以下工作。Ta-C是純?cè)村兡す纠闷浼冸x子鍍膜核心技術(shù)制備的高端碳基薄膜，膜層的SP3鍵含量高達(dá)75%以上，其物理化學(xué)性質(zhì)與金剛石極其類似，可廣泛用于汽油車和柴油車發(fā)動(dòng)機(jī)關(guān)鍵零部件、高端模具、高端切削刀具、電子元器件、醫(yī)療器械及國(guó)防航空；另外，通過(guò)參數(shù)調(diào)節(jié)，純?cè)村兡ぴO(shè)備也可制備出SP3鍵的含量較低的DLC膜層，用于對(duì)于膜層性能要求較低的各個(gè)領(lǐng)域。

②高致密金屬膜

      采用獨(dú)特純離子鍍膜和磁控濺射技術(shù)使得反應(yīng)離子能量高，離子離化率程度高，與基材結(jié)合緊密，可制備Cr、Cu、Al、Ti、Fe、Ni、Pt、Ag、Au等金屬及合金復(fù)合薄膜；可用于消費(fèi)電子、電子元器件行業(yè)以及絕緣材料表面金屬化處理。