PI系列鍍膜機(jī)

采用獨(dú)有的純離子鍍膜源專利技術(shù)，可以提供優(yōu)質(zhì)的類金剛石Ta-C膜層,設(shè)備PIS210-2腔體結(jié)構(gòu)由裝載腔室+真空鍍膜工藝腔室組合而成，鍍膜工藝系統(tǒng)由純離子鍍膜(PIC)+離子束清洗(IONBEAM)融合而成。本設(shè)備為全自動(dòng)設(shè)備，模塊化控制，操作簡單，維護(hù)方便，一鍵式操作即可完成多層膜鍍膜沉積，適合光學(xué)鏡頭模具，及精密高端產(chǎn)品的鍍膜。

主要特點(diǎn)和技術(shù)優(yōu)勢：

? PI系列（PIS210-2）配有高效的電磁掃描系統(tǒng)和過濾系統(tǒng)，離子束能量和方向可調(diào)，經(jīng)過磁過濾后沉積粒子的離化率接近，并且可以過濾掉大顆粒，因此制備的納米薄膜非常致密和光滑，抗腐蝕性能好，與工件的結(jié)合力很強(qiáng)，在均勻性、致密性、結(jié)合度、硬度、摩擦系數(shù)具有獨(dú)特優(yōu)勢；

? 膜層中的碳四面體結(jié)構(gòu)（（金剛石鍵SP3鍵）可以達(dá)到75%以上的，其物理化學(xué)性質(zhì)和金剛石極其類似，薄膜具有極高的硬度（>75GPa）,極低的摩擦系數(shù)（<0.1），耐腐蝕性、光學(xué)透明度等一系列優(yōu)異特征?？蓪㈠兡ぜɑw）壽命比通常的DLC鍍膜延長7-10倍以上。

? 采用純離子低溫鍍膜工藝，鍍膜過程控制在80?C以下，可避免熱應(yīng)力和基材變形。

? 腔體結(jié)構(gòu)由一個(gè)裝載腔室和一個(gè)真空鍍膜工藝腔室組合而成。兩腔室可同步抽真空，極大縮短了鍍膜前處理時(shí)間，提高工作效率。

? 采用自主設(shè)計(jì)電桿傳動(dòng)系統(tǒng)，采用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，運(yùn)行速度可調(diào)節(jié)，運(yùn)行可靠；

? 裝載腔室和鍍膜工藝腔室之間我們設(shè)計(jì)采用插板閥隔開，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。

應(yīng)用領(lǐng)域和范圍：

? 精密光學(xué)行業(yè)（光學(xué)企業(yè)、照相攝像機(jī)企業(yè)等）；高精機(jī)械加工行業(yè)（刀具、模具、精密機(jī)械零部件等）；科研單位（研究所大學(xué)實(shí)驗(yàn)室）等；

? 可以對溫度敏感的基材鍍膜，如橡膠、塑料等高分子聚合物產(chǎn)品；

? 本項(xiàng)目為交鑰匙設(shè)備，純源公司提供提供整套解決方案，包括穩(wěn)定成熟鍍膜配方，設(shè)備交接后即可投產(chǎn)；

? 真空室尺寸，設(shè)備外觀等可按客戶產(chǎn)品或及特殊工藝要求訂做，外圍尺寸根據(jù)客戶安裝場地條件可做調(diào)整。