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二氧化硅波導(dǎo)工藝中的幾個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)：
1)材料生長和退火硬化工藝，要使每層材料的厚度和折射率均勻且準(zhǔn)確，以達(dá)到設(shè)計(jì)的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)參數(shù)，盡量減少材料內(nèi)部的殘留應(yīng)力，以降低波導(dǎo)的雙折射效應(yīng)；
2)RIE刻蝕工藝，要得到陡直且光滑的波導(dǎo)側(cè)壁，以降低波導(dǎo)的散射損耗；
3)RIE刻蝕工藝總會(huì)存在Undercut，要控制Undercut量的穩(wěn)定性，作為布版設(shè)計(jì)時(shí)的補(bǔ)償依據(jù)。
玻璃光波導(dǎo)的制作工藝分為五步：
1)在玻璃基片上濺射一層鋁，作為離子交換時(shí)的掩模層；
2)進(jìn)行光刻，將需要的波導(dǎo)圖形用光刻膠保護(hù)起來；
3)采用化學(xué)腐蝕，將波導(dǎo)上部的鋁膜去掉；
4)將做好掩模的玻璃基片放入含Ag+－Na+離子的混合溶液中，在適當(dāng)?shù)臏囟认逻M(jìn)行離子交換，Ag+離子提升折射率，得到溝道型光波導(dǎo)；
5)對溝道型光波導(dǎo)施以電場，將Ag+離子驅(qū)向玻璃基片深處，得到掩埋型玻璃光波導(dǎo)。
MIC5209YML-TR
USB2534I-1080AEN
CY2308SC-1HT
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B，TI/BB，SON10
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B，TI/BB，QFN16
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595D106X0010A2T，VISHAY
B，TI/BB，VQFN16
BQ24704RGET，TI/BB，VQFN24
BQ24751ARHDR，TI/BB，VQFN28
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