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以上六種常用的PLC光波導(dǎo)材料中，InP波導(dǎo)、二氧化硅波導(dǎo)、SOI波導(dǎo)和聚合物波導(dǎo)以刻蝕工藝制作，鈮酸鋰波導(dǎo)和玻璃波導(dǎo)以離子擴(kuò)散工藝制作，下面分別以二氧化硅波導(dǎo)和玻璃波導(dǎo)為例，介紹兩類波導(dǎo)工藝。
二氧化硅光波導(dǎo)的制作工藝分為七步：
1)采用火焰水解法（FHD）或者化學(xué)氣相淀積工藝（CVD），在硅片上生長一層SiO2，其中摻雜磷、硼離子，作為波導(dǎo)下包層；
2)采用FHD或者CVD工藝，在下包層上再生長一層SiO2，作為波導(dǎo)芯層，其中摻雜鍺離子，獲得需要的折射率差；
3)通過退火硬化工藝，使前面生長的兩層SiO2變得致密均勻。
4)進(jìn)行光刻，將需要的波導(dǎo)圖形用光刻膠保護(hù)起來；
5)采用反應(yīng)離子刻蝕（RIE）工藝，將非波導(dǎo)區(qū)域刻蝕掉；
6)去掉光刻膠，采用FHD或者CVD工藝，在波導(dǎo)芯層上再覆蓋一層SiO2，其中摻雜磷、硼離子，作為波導(dǎo)上包層；
7)通過退火硬化工藝，使上包層SiO2變得致密均
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