等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備——PISC-6141-1

      PISC-6141-1等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備是一款集純離子鍍膜技術(shù)(PureionCathode)、高能離子?xùn)|清洗技術(shù)(lonbeam)磁控濺射技術(shù)(Sputter)、磁約束氣相沉積技術(shù)(Magneticconfinement-CVD)四種技術(shù)于一體，是PVD技術(shù)與CVD技術(shù)的一次完美融合。該系列設(shè)備提供了更加靈活的工藝組合以滿足各類繁雜的產(chǎn)品需求，其功能強(qiáng)大的混合工藝為工藝設(shè)計(jì)人員提供了更多的可能性。

      設(shè)備功能簡介:

(1)純離子鍍膜源，采用高效電磁過濾系統(tǒng)，有效祛除顆粒，獲得更高純度的離子束流，幫助提升涂層基礎(chǔ)硬度及結(jié)合力;

(2)高能離子束清洗源，采用特殊設(shè)計(jì)的放電結(jié)構(gòu)，有效兼容了等離子清洗活化、輔助電離、獨(dú)立沉積等功能;

(3)磁控濺射源，采用創(chuàng)新的磁場設(shè)計(jì)，有效提升靶材利用率30%以上;

(4)磁約束氣相沉積源，可靠且易于維護(hù)的結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)快速而又細(xì)膩的涂層沉積典型涂層類型，如下所示：

注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-先進(jìn)材料實(shí)驗(yàn)室-檢測結(jié)果