光學(xué)模具鍍膜機——PI 系列鍍膜機
純源研制的PI系列鍍膜機采用獨有的純離子鍍膜源核心技術(shù),可以提供優(yōu)質(zhì)的類金剛石Ta-C膜層,設(shè)備PIS210-2腔體結(jié)構(gòu)由裝載腔室+真空鍍膜工藝腔室組合而成,鍍膜工藝系統(tǒng)由純離子鍍膜(PIC)+離子束清洗(IONBEAM)融合而成。本設(shè)備為全自動設(shè)備,模塊化控制,操作簡單,維護方便,一鍵式操作即可完成多層膜鍍膜沉積,適合光學(xué)鏡頭模具,及精密高端產(chǎn)品的鍍膜。
主要特點和技術(shù)優(yōu)勢:
1、PI系列(PIS210-2)配有高效的電磁掃描系統(tǒng)和過濾系統(tǒng),離子束能量和方向可調(diào),經(jīng)過磁過濾后沉積粒子的離化率接近,并且可以過濾掉大顆粒,因此制備的納米薄膜非常致密和光滑,抗腐蝕性能好,與工件的結(jié)合力很強,在均勻性、致密性、結(jié)合度、硬度、摩擦系數(shù)具有獨特優(yōu)勢;
2、膜層中的碳四面體結(jié)構(gòu)((金剛石鍵SP3鍵)可以達到75%以上的,其物理化學(xué)性質(zhì)和金剛石極其類似,薄膜具有極高的硬度(>75GPa),極低的摩擦系數(shù)(<0.1),耐腐蝕性、光學(xué)透明度等一系列優(yōu)異特征。可將鍍膜件(基體)壽命比通常的DLC鍍膜延長7-10倍以上。
3、采用純離子低溫鍍膜工藝,鍍膜過程控制在80?C以下,可避免熱應(yīng)力和基材變形。
4、腔體結(jié)構(gòu)由一個裝載腔室和一個真空鍍膜工藝腔室組合而成。兩腔室可同步抽真空,極大縮短了鍍膜前處理時間,提高工作效率。
5、采用自主設(shè)計電桿傳動系統(tǒng),采用變頻調(diào)速電機驅(qū)動,運行速度可調(diào)節(jié),運行可靠;
6、裝載腔室和鍍膜工藝腔室之間我們設(shè)計采用插板閥隔開,可以有效隔斷,穩(wěn)定工藝氣體。
光學(xué)鍍膜 , 類金剛石涂層 , 高精模具鍍膜設(shè)備 , PVD真空鍍膜
真空鍍膜設(shè)備,PVD鍍膜加工,類金剛石涂層加工,磁控濺射鍍膜機,純離子鍍膜設(shè)備
納米薄膜、機電一體化、機電設(shè)備、材料科學(xué)設(shè)備及技術(shù)研發(fā)、設(shè)計、安裝、維修、服務(wù)及銷售。(依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動)
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司,坐落于合肥市高新區(qū)習(xí)友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設(shè)計、研發(fā)和制造;并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務(wù)。公司目前擁有設(shè)計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc)、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學(xué)氣相沉積(CVD)等領(lǐng)域都...