上海伯東德國(guó)普發(fā)Pfeiffer渦輪分子泵成功應(yīng)用于磁控濺射-國(guó)產(chǎn)精品1688_免費(fèi)黃色片網(wǎng)站
上海伯東代理德國(guó)普發(fā) pfeiffer 渦輪分子泵 hipace 700 成功應(yīng)用于寧波某研究所磁控濺射（megnetron sputtering）系統(tǒng).寧波某研究所磁控濺射（megnetron sputtering）系統(tǒng)用于光刻膠片上濺金屬鉻,銅,鈦.其中材料生長(zhǎng)腔工作真空度要求 < e-7 hpa,能做到4英寸片,3靶位,可實(shí)現(xiàn)編程鍍膜.材料生長(zhǎng)腔對(duì)渦輪分子泵的要求較高,老師在考量了德國(guó)普發(fā) pfeiffer hipace 700 渦輪分子泵和愛(ài)德華 edwards stp603 分子泵后,因?yàn)閷?duì)分子泵的壓縮比要求較高,Zui終選擇了德國(guó)普發(fā) pfeiffer 分子泵.
-------寧波某研究所磁控濺射系統(tǒng)加裝 pfeiffer 渦輪分子泵-----
德國(guó)普發(fā) pfeiffer 渦輪分子泵 hipace 700 主要優(yōu)點(diǎn)：
1.高壓縮比 >1x1011
2.使用壽命長(zhǎng)
3.渦輪分子泵真空度高且穩(wěn)定 < e-7 hpa
4.大抽速 (n2) 685 l/s
5.與愛(ài)德華 edwards stp603 相比,更大壓縮比,真空度高且更穩(wěn)定
值得一提的是,德國(guó)普發(fā) pfeiffer 渦輪分子泵廣泛應(yīng)用于國(guó)際知名的磁控濺射廠商,如美國(guó) svta,芬蘭 dca,北京匯德信等.
寧波某研究所磁控濺射（megnetron sputtering）系統(tǒng),同時(shí)使用上海伯東德國(guó)普發(fā) pfeiffer 真空規(guī) pkr 251 測(cè)量腔體真空度,美國(guó) hva6's 真空閥門(mén)和德國(guó)普發(fā) pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀 asm 340 檢漏腔體.
上海伯東德國(guó)普發(fā) pfeiffer 渦輪分子泵 hipace 系列產(chǎn)品抽速范圍 10 l/s 至 2300 l/s,轉(zhuǎn)子速率可達(dá)90000rpm。更有渦輪分子泵組 hicube 系列和全磁浮渦輪分子泵 ath 系列供選擇已滿(mǎn)足不同應(yīng)用。pfeiffer 渦輪分子泵更獲得歐洲工業(yè)設(shè)計(jì)Zui高獎(jiǎng)“紅點(diǎn)獎(jiǎng)”.
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