AF防指紋真空鍍膜機(jī)防指紋處理的工藝流程：

（1）使用弱堿性清洗劑或溶劑去除基材表面油分、水分等污跡，通過(guò)超聲波清洗效果更好;（2）將AF藥液鍍?cè)诋a(chǎn)品表面成膜;（3）烘烤：噴涂后取出玻璃，放入烤箱（120度，30分鐘），視具體要求及產(chǎn)品情況調(diào)整至良好;（4）清潔：產(chǎn)品清潔后，成品包裝。

AF防指紋真空鍍膜機(jī)特點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域:

（1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；（2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；（3）膜層?。簝?yōu)異光學(xué)性能、不改變?cè)械募y理；（4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF防指紋真空鍍膜機(jī)的品質(zhì)：

（1）擦傷測(cè)試及水滴角指標(biāo)：（2）初始水滴角115-120度，（3）擦傷測(cè)試（#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、（4）摩擦次數(shù)2000次）后，水滴角108-116度。（5）表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例，9HMax.鉛筆硬度。

現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚測(cè)量及監(jiān)控方法

現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚測(cè)量及監(jiān)控方法涂層的鍍膜機(jī)控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅(qū)動(dòng)的蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制回路傳動(dòng)擋板，使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過(guò)程。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的，鍍膜機(jī)部分原因是其監(jiān)測(cè)代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對(duì)溫度很敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，鍍膜機(jī)很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導(dǎo)致薄膜的重大錯(cuò)誤。光學(xué)監(jiān)測(cè)是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式，鍍膜機(jī)這是因?yàn)樗軠?zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。

光學(xué)鍍膜材料真空應(yīng)用領(lǐng)域

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。