石墨烯粉體制造設(shè)備分散機(jī)   石墨烯高剪切分散機(jī)  石墨高剪切分散設(shè)備   石墨烯高速分散設(shè)備  石墨烯在線式分散設(shè)備

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石墨烯粉體的制造

石墨烯(Graphene)是一種由碳原子以sp2雜化軌道組成六角型呈蜂巢晶格的二維碳納米材料。

石墨烯具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、力學(xué)特性，在材料學(xué)、微納加工、能源、生物醫(yī)學(xué)和藥物傳遞等方面具有重要的應(yīng)用前景，被認(rèn)為是一種未來(lái)革命性的材料。

石墨烯常見的粉體生產(chǎn)的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法，薄膜生產(chǎn)方法為化學(xué)氣相沉積法(CVD)。

氧化還原法

氧化還原法是通過(guò)使用硫酸、硝酸等化學(xué)試劑及高錳酸鉀、雙氧水等氧化劑將天然石墨氧化，增大石墨層之間的間距，在石墨層與層之間插入氧化物，制得氧化石墨(GraphiteOxide)。然后將反應(yīng)物進(jìn)行水洗，并對(duì)洗凈后的固體進(jìn)行低溫干燥，制得氧化石墨粉體。通過(guò)物理剝離、高溫膨脹等方法對(duì)氧化石墨粉體進(jìn)行剝離，制得氧化石墨烯。Zui后通過(guò)化學(xué)法將氧化石墨烯還原，得到石墨烯(RGO)。這種方法操作簡(jiǎn)單，產(chǎn)量高，但是產(chǎn)品質(zhì)量較低。氧化還原法使用硫酸、硝酸等強(qiáng)酸，存在較大的危險(xiǎn)性，又須使用大量的水進(jìn)行清洗，帶大較大的環(huán)境污染。

機(jī)械剝離法

機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng)，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu)。2004年，英國(guó)兩位科學(xué)使用透明膠帶對(duì)天然石墨進(jìn)行層層剝離取得石墨烯的方法，也歸為機(jī)械剝離法，這種方法一度被認(rèn)為生產(chǎn)效率低，無(wú)法工業(yè)化量產(chǎn)。雖然這種方法可以制備微米大小的石墨烯，但是其可控性較低，難以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模合成。

現(xiàn)在很多的公司都用機(jī)械剝離法制備石墨烯粉體，這樣的好處是

成本低機(jī)械剝離法相對(duì)氧化還原法制備石墨烯粉體的成本低，2.環(huán)保，現(xiàn)在各個(gè)地方都對(duì)環(huán)保查的特別嚴(yán)格，Zui后殘料處理都是很大的問(wèn)題。

我們公司的高剪切分散機(jī)就可以能夠制備石墨烯粉體，雖然不能夠制得單層石墨烯粉體但是Zuigao可以制得三層石墨烯粉體，就光是三層石墨烯粉體在中國(guó)都有很大的市場(chǎng)。

我司KZSD2000分散機(jī)參數(shù)

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量L/H

輸出轉(zhuǎn)速Rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度m/s

馬達(dá)功率KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

KZSD2000/4

300-1，000

18，000

51

4

DN25

DN15

KZSD2000/5

1，000-1,500

13，500

11

DN40

DN32

KZSD2000/10

3，000

9，300

22

DN50

DN50

KZSD2000/20

8，000

3，600

37

DN80

DN65

KZSD2000/30

20，000

75

DN150

DN125

KZSD2000/50

40，000

2，500

160

DN200

DN150

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3 參數(shù)內(nèi)的各種型號(hào)的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不同,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。