彌特小型UV噴碼機采用工業(yè)壓電式噴印技術,模塊化設計,可16個噴頭任意組合,滿足了不同高度、多筆資料的噴印需求;CISS連續(xù)供墨系統(tǒng),使供墨變得簡單、易維護;通過 與噴頭一對一模塊化設計的UVLED固化設備,為材質適應性提供了環(huán)保、有效的解決方案。
友好的操作界面
8寸工業(yè)級超大觸摸電容屏,基于安卓系統(tǒng)操作界面,可快捷噴印及編輯資料;
支持多語言,多輸入法
噴印各種可變數(shù)據(jù)
實時噴印各種可變數(shù)據(jù),包括條碼、二維碼、日期時間、班組號、計數(shù)器、圖形、表格、數(shù)據(jù)庫等。
按需尺寸噴印
單噴頭噴印高度0.5mm-32.4mm,通過多達16個頭的疊拼噴印高度可達512mm
多筆資料同時噴印
模塊化噴頭任意組合,集中控制,可滿足多筆不同高度資料在噴印面同時噴印的需求。
廣泛的材質適應性
通過使用UV墨水噴印和UV-LED固化設備,解決了大部分非滲透性噴印材質適應性問題。
燈頭對應噴頭的模塊化設計,讓設備安裝維護簡單化。
專業(yè)的安裝配件
雙軸調節(jié)結構、防撞機構等安裝配件,,滿足了用戶適應產(chǎn)線變化的快速調整需求。
穩(wěn)定的連續(xù)供墨系統(tǒng)(CISS)
大容量集中供墨墨瓶,大幅降低噴墨成本。墨水集中管理,維護簡單。墨盒芯片加密保護。
豐富的軟硬件接口
完善的SDK開發(fā)包,支持PLC、RS232、RS485硬件接口,滿足系統(tǒng)集成商和設備供應商的基礎需要。
滿足個性化需求
開放式平臺及先進的軟件架構讓客戶個性化需求得到快速滿足,可按客戶需求定制各類插件及特殊噴印的需求。
在噴印方式方面,彌特壓電式高解析噴碼機可實現(xiàn)下噴、側噴等,無論是側噴和下噴都能在快速生產(chǎn)線上獲得高品質的噴印效果,另外,彌特UV高解析噴碼機支持水性墨水、UV墨水及溶劑墨水,幾乎適用各種噴印材料。
技術參數(shù)
噴印技術 | 壓電式噴印技術 |
噴印速度 | 0-200米/分(600dpi) |
噴印寬度 | 54mm(依據(jù)產(chǎn)線速度) |
噴印解析度 | 0.5-32.4mm |
接口 | 1)配備2個USB接口,可連接CISS供墨系統(tǒng)、U盤或其它外接設備 2)I/O_1接口(12pin),可外接三色燈及PLC、RS485 3)I/O_2接口(7pin),可外接三色燈及PLC、RS232 4)以太網(wǎng)接口,可接入網(wǎng)絡或局域網(wǎng) |
供墨系統(tǒng) | CISS供墨系統(tǒng),配備墨水報 |
屏幕 | 8"工業(yè)級電容屏,分辨率1280*800 |
電源適配器 | 110-240V輸入,24V5A輸出 |
安裝方式 | 可支持側噴、下噴;可自選安裝支架 |
適用墨水 | 可使用水性、溶劑、UV墨水;切勿使用油性墨水及清洗劑 |
墨水管理 | 自動識別墨水類型并確認參數(shù);墨水用量自動測算 |
運行環(huán)境 | 9°F (15°C) -104°F (40°C) |
存放環(huán)境 | 41° F (5°C)-113°F (45°C) |
設備規(guī)格 | 控制器:222*143*38mm |
產(chǎn)品認證 | CE、FCC |
追溯系統(tǒng),一物一碼營銷系統(tǒng),防偽防竄貨系統(tǒng),倉庫管理系統(tǒng),UV噴碼機,印刷視覺檢測系統(tǒng)
信息技術咨詢服務;信息系統(tǒng)集成服務;數(shù)據(jù)處理和存儲服務;軟件開發(fā);計算機零售;計算機零配件零售;軟件零售;電氣設備零售;通用機械設備零售;機械配件零售;商品零售貿易(許可審批類商品除外);互聯(lián)網(wǎng)商品零售(許可審批類商品除外);企業(yè)管理咨詢服務;策劃創(chuàng)意服務;市場營銷策劃服務;市場調研服務;商務咨詢服務;廣告業(yè);電子、通信與自動控制技術研究、開發(fā);計算機技術開
廣州彌特智能科技有限公司(簡稱彌特科技)成立于2006年,是目前國內產(chǎn)品全生命周期追溯系統(tǒng)的領 先者,定位于產(chǎn)品物聯(lián)網(wǎng)行業(yè),專 業(yè)為客戶打造以產(chǎn)品身份碼為核心的產(chǎn)品物聯(lián)系統(tǒng)。徹底解決多年來困擾企業(yè)的質量追溯、防偽防竄、物流管理、渠道控制、產(chǎn)品溯源、監(jiān)管合規(guī)等一系列關乎品牌安全的重要問題。同時結合時下流行的移動互聯(lián),通過產(chǎn)品身份碼進行營銷運用,在不斷提升企業(yè)品牌價值以贏得社會公眾的信賴的同時,通過對各階段掃碼行為的數(shù)據(jù)分析更...