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IC由很多重疊的層組成,每層由視頻技術(shù)定義,通常用不同的顏色表示。一些層標(biāo)明在哪里不同的摻雜劑擴散進基層(成為擴散層),一些定義哪里額外的離子灌輸(灌輸層),一些定義導(dǎo)體(多晶硅或金屬層),一些定義傳導(dǎo)層之間的連接(過孔或接觸層)。所有的組件由這些層的特定組合構(gòu)成。
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在一個自排列(CMOS)過程中,所有門層(多晶硅或金屬)穿過擴散層的地方形成晶體管。
電阻結(jié)構(gòu),電阻結(jié)構(gòu)的長寬比,結(jié)合表面電阻系數(shù),決定電阻。
電容結(jié)構(gòu),由于尺寸限制,在IC上只能產(chǎn)生很小的電容。
更為少見的電感結(jié)構(gòu),可以制作芯片載電感或由回旋器模擬。
因為CMOS設(shè)備只引導(dǎo)電流在邏輯門之間轉(zhuǎn)換,CMOS設(shè)備比雙極型組件(如雙極性晶體管)消耗的電流少很多。透過電路的設(shè)計,將多顆的晶體管管畫在硅晶圓上,就可以畫出不同作用的集成電路。
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