高純甲基叔丁基在半導(dǎo)體光刻膠剝離液配方中的應(yīng)用

甲基叔丁基（MTBE）因其對(duì)光刻膠中的聚合物組分優(yōu)良的溶脹性能和相對(duì)較高的閃點(diǎn)（約-28°C，較安全），在光刻膠剝離液配方中作為滲透促進(jìn)劑和助溶劑使用。它對(duì)去膠效率的提升作用在厚膜光刻膠和固化后聚酰亞胺的去除中較為明顯。山東安達(dá)化工電子級(jí)MTBE的純度≥99.5%，水分≤0.02%，過氧化物（以H?O?計(jì)）≤3ppm，不揮發(fā)物≤5ppm。

MTBE應(yīng)用中的主要風(fēng)險(xiǎn)在于過氧化物的生成。山東安達(dá)化工在產(chǎn)品中添加特定的過氧化物分解抑制劑（非BHT類，避免影響光刻膠性能），并采用密閉氮封和避光包裝，將產(chǎn)品儲(chǔ)存過程中的過氧化物生成速率降至較低水平。每批產(chǎn)品出廠前均進(jìn)行過氧化物含量檢測(cè)，確保符合指標(biāo)要求。

在部分先進(jìn)封裝工藝的再分布層（RDL）光刻膠去除工序中，MTBE與DMF按一定比例復(fù)配的剝離液展現(xiàn)出對(duì)厚膜光刻膠快速剝離、對(duì)低介電材料損傷較小的綜合優(yōu)勢(shì)。山東安達(dá)化工可按客戶配方需求提供預(yù)混液，附帶使用參數(shù)建議。