日本KBSEIREN SavinaMX擦拭布
Savina Minimax是日本KBSEIREN株式會社（原KANEBO）開發(fā)的目前Zuigaoji的無塵擦拭布系列產(chǎn)品，吸水吸油性極強，不磨損原件。廣泛用于光學(xué)鏡頭制造，辦公器材保養(yǎng)，10級以上的無塵車間凈化室，半導(dǎo)體生產(chǎn)線車間等領(lǐng)域。cleanroomwiper
日本KANEBO公司生產(chǎn)的HITECLOTH 超細纖維無塵布是由Belima.X織成，其不規(guī)則的纖維排布組成適用于各種不規(guī)則物體的細微表面處理，不會掉絨毛，超柔軟布質(zhì)及高度抗磨損特性可應(yīng)用于精密儀器之保養(yǎng)
規(guī)格：24CM X 24CM
包裝：100片/包
高科技領(lǐng)域正日益精密和復(fù)雜。對于LSI和LCD等產(chǎn)品生產(chǎn)過程中所需的嚴格無塵環(huán)境而言，高效擦拭布是必備要素。SavinaMX能夠輕松滿足時代需求，具有出色的功能，足以應(yīng)對超級無塵室中的極端無塵條件。
無塵室中所使用的擦拭布應(yīng)當能夠清潔所有儀器、器械和外圍設(shè)備，同時不會造成污染。擦拭布還要能夠吸收并清除多余的水分。SavinaMX具備此類擦拭布所需的所有屬性，是性能zuihao的擦拭布之一，專為高科技時代而設(shè)計。
超級高收縮、高密度整理產(chǎn)品
Savina MX的橫截面
Savina MX的表面
SavinaMX在專門的細針距針織機上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達到其原始尺寸的40%。它未經(jīng)任何粘合劑處理，就達到了這樣的致密結(jié)構(gòu)。所得擦拭布表面積高達25,700c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g
掉毛量極少。
迅速而積極地吸收并留住水分。
殘留離子和其他物質(zhì)的溶解率較低。
具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量Zui大，同時不會污染無塵室設(shè)備）。
光磁盤、硬盤和軟盤的生產(chǎn)過程
液晶偏轉(zhuǎn)板以及其他物品的生產(chǎn)過程
光盤和磁盤的生產(chǎn)過程
錄像機的生產(chǎn)過程
隱形眼鏡的生產(chǎn)過程
相機裝配線
印刷電路板的清潔工藝
相機鏡頭鍍膜前的清潔工藝
藥品生產(chǎn)線清潔工藝
電影膠片清潔工藝
半導(dǎo)體和基礎(chǔ)電路的生產(chǎn)過程
精密涂層之前工件的清潔過程
KBSEIREN , Savina , MX擦拭布Minimax
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