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2026年IC設(shè)備展|晶圓制程核心工藝裝備專業(yè)展會-歐美國產(chǎn)精品一級二級三級|色戒完整未刪減版在線觀看

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晶圓制造是集成電路產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)壁壘高、投資規(guī)模大、工藝復(fù)雜的核心環(huán)節(jié),光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備三大核心工藝裝備,占晶圓制造設(shè)備總投資超50%,是決定芯片制程節(jié)點(diǎn)、性能與良率的關(guān)鍵,也是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主可控的核心攻堅(jiān)領(lǐng)域。2026 年 11月,北京國家會議中心,第二十三屆中國國際半導(dǎo)體博覽會(IC China 2026)重磅推出2026年 IC 設(shè)備展 ——晶圓制程核心工藝裝備專業(yè)展會,聚焦晶圓制造前道核心工藝裝備、制程配套設(shè)備、量測檢測設(shè)備及工藝解決方案,打造國內(nèi)唯一專注晶圓制程核心裝備的高規(guī)格、專業(yè)化產(chǎn)業(yè)對接平臺。

IC China 由中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會、中國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院聯(lián)合主辦,是國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)唯一全產(chǎn)業(yè)鏈展會,自2003 年創(chuàng)辦以來,始終聚焦晶圓制造與核心裝備國產(chǎn)化,見證并推動(dòng)了中國 IC設(shè)備產(chǎn)業(yè)從空白起步到局部突破、從低端配套到高端攻堅(jiān)的艱辛發(fā)展歷程。本屆 IC 設(shè)備展依托 IC China二十余年行業(yè)資源積淀與全產(chǎn)業(yè)鏈整合能力,精準(zhǔn)聚焦晶圓制造前道制程核心裝備,覆蓋研發(fā)、制造、測試、應(yīng)用全環(huán)節(jié),為 IC設(shè)備企業(yè)搭建技術(shù)展示、產(chǎn)品推廣、商務(wù)對接、工藝協(xié)同的核心陣地。

本屆 IC China 2026 總展覽面積超 5 萬平方米,匯聚 500余家國內(nèi)外龍頭企業(yè)、專精特新企業(yè)與創(chuàng)新團(tuán)隊(duì),預(yù)計(jì)接待4萬余名專業(yè)觀眾,覆蓋晶圓廠、IDM、IC 設(shè)備制造商、零部件供應(yīng)商、材料企業(yè)、科研院所及投資機(jī)構(gòu)等 IC設(shè)備產(chǎn)業(yè)核心人群。IC 設(shè)備展作為本屆展會具戰(zhàn)略意義的核心展區(qū)之一,將集中展示全球新晶圓制程核心工藝裝備與技術(shù),成為國內(nèi)外 IC設(shè)備企業(yè)展示技術(shù)、拓展市場、對接晶圓廠的平臺。

本次 IC 設(shè)備展展品范圍精準(zhǔn)聚焦晶圓制造前道核心工藝裝備,覆蓋7nm/5nm/3nm 先進(jìn)制程與成熟制程全需求,聚焦高精度、高穩(wěn)定性、高良率、低能耗等行業(yè)剛需:

  • 光刻工藝設(shè)備:光刻機(jī)(EUV/ArF/KrF/g線)、涂膠顯影設(shè)備、光刻膠處理系統(tǒng)、光刻檢測設(shè)備、掩模版制備設(shè)備;

  • 刻蝕工藝設(shè)備:干法刻蝕機(jī)(電感耦合 /電容耦合)、濕法刻蝕機(jī)、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、感應(yīng)耦合等離子體刻蝕(ICP)、原子層刻蝕(ALE)、刻蝕檢測設(shè)備;

  • 薄膜沉積設(shè)備:化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)、原子層沉積(ALD)、外延生長設(shè)備、氧化 /擴(kuò)散設(shè)備、薄膜厚度檢測設(shè)備;

  • 晶圓清洗與表面處理:全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)、濕法清洗設(shè)備、干法清洗設(shè)備、去離子水系統(tǒng)、表面活化設(shè)備、晶圓干燥設(shè)備;

  • 離子注入與退火:離子注入機(jī)、高能離子注入機(jī)、快速熱處理(RTP)、激光退火設(shè)備、高溫退火爐;

  • 晶圓檢測與量測:掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)、光學(xué)檢測設(shè)備(AOI)、原子力顯微鏡(AFM)、晶圓厚度/ 平整度量測設(shè)備、缺陷檢測與分析設(shè)備;

  • 制程配套與自動(dòng)化:晶圓傳輸系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、氣體供應(yīng)與純化系統(tǒng)、超純水系統(tǒng)、潔凈室設(shè)備、自動(dòng)化上下料系統(tǒng)、智能倉儲物流系統(tǒng);

  • 設(shè)備核心零部件:精密運(yùn)動(dòng)平臺、光學(xué)鏡頭、激光器、真空腔體、射頻電源、高壓電源、傳感器、控制器、特種閥門、密封件;

  • 工藝解決方案:先進(jìn)制程工藝方案、成熟制程量產(chǎn)方案、設(shè)備國產(chǎn)化替代方案、工藝良率提升方案。

  • 當(dāng)前,全球晶圓制程設(shè)備市場長期被海外巨頭壟斷,光刻機(jī)、高端刻蝕機(jī)、先進(jìn)沉積設(shè)備等核心裝備高度依賴進(jìn)口,成為制約中國先進(jìn)制程發(fā)展的大瓶頸。本屆IC 設(shè)備展將集中呈現(xiàn)國產(chǎn) IC設(shè)備在刻蝕、沉積、清洗、檢測等領(lǐng)域的新突破與量產(chǎn)成果,重點(diǎn)展示國產(chǎn)設(shè)備在成熟制程的規(guī)?;瘧?yīng)用與先進(jìn)制程的技術(shù)攻關(guān)進(jìn)展,同時(shí)匯聚國際IC 設(shè)備企業(yè)前沿技術(shù)與產(chǎn)品,搭建 “國產(chǎn)攻堅(jiān)+ 國際交流 + 晶圓對接” 的戰(zhàn)略平臺,推動(dòng) IC 設(shè)備產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新與國產(chǎn)化替代加速。

    同期舉辦的2026中國晶圓制程設(shè)備國產(chǎn)化創(chuàng)新峰會,將邀請國內(nèi)外 IC設(shè)備龍頭企業(yè)高管、晶圓廠工藝負(fù)責(zé)人、專家、科研院所學(xué)者與投資機(jī)構(gòu)代表,圍繞“刻蝕機(jī)技術(shù)突破、沉積設(shè)備國產(chǎn)化、光刻機(jī)攻堅(jiān)進(jìn)展、先進(jìn)制程設(shè)備研發(fā)、成熟制程設(shè)備量產(chǎn)、設(shè)備零部件自主可控”等熱點(diǎn)議題展開深度交流與研討,分享前沿技術(shù)趨勢、解讀產(chǎn)業(yè)發(fā)展機(jī)遇、探討合作共贏模式,為參展企業(yè)提供高價(jià)值的行業(yè)洞察與資源對接機(jī)會。

    本屆 IC 設(shè)備展的4萬余名專業(yè)觀眾,均為經(jīng)過嚴(yán)格篩選的產(chǎn)業(yè)鏈精準(zhǔn)人群,具備高采購決策力、高技術(shù)關(guān)注度與高合作意愿,覆蓋 IC設(shè)備、晶圓制造、零部件、材料、科研、投資等全環(huán)節(jié),可幫助參展企業(yè)快速對接晶圓廠、IDM、優(yōu)質(zhì)客戶與合作伙伴,獲取一手訂單、拓展行業(yè)人脈、提升品牌影響力。無論是龍頭企業(yè)發(fā)布新一代制程設(shè)備、創(chuàng)新企業(yè)展示突破性技術(shù)成果,還是中小企業(yè)尋求合作與市場突破,都能在本屆專題展上獲得高效精準(zhǔn)對接與高價(jià)值行業(yè)資源。

    裝備強(qiáng)芯,制程致遠(yuǎn)。2026 年 11 月,北京國家會議中心,IC China 2026 IC 設(shè)備展誠邀全球 IC設(shè)備企業(yè)、晶圓制造廠商、產(chǎn)業(yè)鏈上下游伙伴、科研機(jī)構(gòu)與投資機(jī)構(gòu)齊聚一堂,共探制程設(shè)備創(chuàng)新之路、共商國產(chǎn)化替代之策、共筑芯片制造之基,攜手開創(chuàng)中國集成電路設(shè)備產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展新局面。


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    2001年12月14日
    注冊資本
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    主營產(chǎn)品

    半導(dǎo)體展會資訊,集成電路展報(bào)道,科技展會實(shí)拍

    公司簡介

    和展網(wǎng)品牌活動(dòng)服務(wù)中心專注掃描全球科技展會現(xiàn)場。重點(diǎn)推送世界機(jī)器人大會、半導(dǎo)體展、IC China、ICEXPO、集成電路展、數(shù)博會等核心盛會資訊——同業(yè)對標(biāo)、現(xiàn)場實(shí)拍、口碑速報(bào)、歷史數(shù)據(jù)一頁全覽,幫觀眾一鍵鎖定值得去的科技展。...

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