數(shù)量：5 片（多層胎體時 10 片，兩面分別試驗）。

尺寸：(250 ± 1) mm × (50 ± 1) mm，長邊為縱向，距邊 ≥150 mm 裁取。

表面處理：
– 去除保護膜（膠帶冷卻撕、壓縮空氣或短時火焰）。
– 用金屬模板+加熱刮刀將上表面涂蓋層去除至胎體（寬 10-12 mm，見圖 1/2），不得損傷胎體。

測量基點：
– 方法 A（光學(xué)）：用無溶劑膠將 M5 螺母粘在裸露胎體上作為基點，再釘 30 mm×30 mm 鋁標簽；兩基點中心距 ≈200mm。
– 方法 B（卡尺）：專用基點片粘于胎體，中心距 200 mm。

狀態(tài)調(diào)節(jié)：試件平鋪在撒滑石粉平板 (23 ± 2) ℃ ≥24 h；量具同步放置。

鼓風(fēng)烘箱：80 ℃ ± 2 ℃，試驗區(qū)溫差 ≤ ±2 ℃，開門 30 s 后 5 min 內(nèi)恢復(fù)。

熱電偶：精度 ±1 ℃，位于試件中心高度。

測量裝置
– 方法 A：長臂圓錐量規(guī)（臂長 190 mm、錐角 60°）、畫線釘（φ0.05 mm）、讀數(shù)放大鏡（0.05 mm）。
– 方法 B：卡尺（變形測量器）0.05 mm 級。

玻璃板：撒少量滑石粉防粘。