該純離子鍍膜設備(如圖)主要是集純離子鍍膜技術(PIC)、高能離子束清洗技術(IONBEAM)和磁控濺射技術(SPUTTER)三種技術融合于一體，其獨有的純離子鍍膜源核心技術，利用高效的電磁過濾系統(tǒng)和電磁掃描系統(tǒng)，有效過濾掉中性粒子、大顆粒離子團等雜質，大幅度提高等離子體束流純度，使膜層更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性也更優(yōu)異?？梢藻冎坪穸确秶鷱?00nm-28μm的超級類金剛石Ta-C膜層。
PIS624設備配置
設備型號 | PIS624 |
鍍膜源類型 | 純離子鍍膜源、高能離子束清洗源、磁控濺射源 |
極限真空（清潔空載條件下）/漏率 | ≤5×10-4Pa/≤5×10-10Pa?m3/s |
抽氣速率 | <30分鐘(真空度5x10-3Pa，空載) |
有效鍍膜范圍(mm) | Φ1000*H800 |
可選配套電源 | 直流、脈沖直流、中頻、射頻、高功率脈沖等 |
工藝氣體 | Ar，C2H2，N2，O2等 |
靶材匹配 | 石墨靶、Cr、Ti、Ni、Cu、Ta、Zr、W等金屬單質或合金靶 |
真空系統(tǒng) | 機械泵+羅茨泵+分子泵 |
控制方式 | PLC+上位機 |
設備功率 | 70KW |
設備占地（mm） | L5000×W4000×H3100 |
配套要求 | 循環(huán)水壓力：0.2-0.4MPa，壓縮空氣：0.6-0.7MPa |
設備優(yōu)勢：
?電磁過濾系統(tǒng)可過濾掉大顆粒離子團和原子團，膜層致密、粘附性好；
?電磁掃描系統(tǒng)，可定點定時控制等離子體的束流方向，極大改善涂層均勻性，整爐膜層均勻性控制±5%以內；
?可鍍涂層厚度范圍廣：可鍍100nm-28μm的超級類金剛石Ta-C膜層。
設備應用領域：
消費電子、交通工具、醫(yī)療器械、高校及科研院所、工業(yè)耗材制造等行業(yè)。
PIS624設備鍍制膜層圖集（部分）
關鍵詞
磁過濾系統(tǒng) , 電磁掃描系統(tǒng) , 制備膜層均勻致密 , 超高硬度
更新時間
安徽純源鍍膜科技有限公司已認證
- 黃金會員
- 第3年
- 統(tǒng)一社會信用代碼
- 91340100394452746Q
- 成立日期
- 2014年10月23日
- 法定代表人
- 張心鳳
- 注冊資本
- 800
主營產品
真空鍍膜設備，PVD鍍膜加工，類金剛石涂層加工，磁控濺射鍍膜機，純離子鍍膜設備
經營范圍
納米薄膜、機電一體化、機電設備、材料科學設備及技術研發(fā)、設計、安裝、維修、服務及銷售。（依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動）
公司簡介
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司，坐落于合肥市高新區(qū)習友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設計、研發(fā)和制造；并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務。公司目前擁有設計、研發(fā)、工藝、市場和生產等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc）、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積（CVD）等領域都...