MALDI質(zhì)譜成像技術(shù)已成為生物標(biāo)志物研究、醫(yī)學(xué)、藥物研究等方面的重要手段，自動(dòng)化的基質(zhì)噴涂技術(shù)可大大提高M(jìn)ALDI質(zhì)譜成像的靈敏度和分辨率。

產(chǎn)品特色：

    HST公司研發(fā)μMatrix（矩陣觀察）微噴霧系統(tǒng)是質(zhì)譜組織成像領(lǐng)域內(nèi)一款新型的基質(zhì)制備設(shè)備。通過(guò)電腦控制的壓電式模塊，只需要pl的上樣量，即可產(chǎn)生高重現(xiàn)性和均一性Matrix制備。在組織多肽領(lǐng)域，該系統(tǒng)也可以制備均質(zhì)的酶消化樣本。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

   與市場(chǎng)上傳統(tǒng)的納升級(jí)噴霧系統(tǒng)不同，此微噴霧系統(tǒng)采用全新的精細(xì)霧點(diǎn)控制模塊，率先在細(xì)微的組織表面高分辨率的均勻噴灑各種基質(zhì)。也可將胰蛋白酶直接噴灑在組織表面，進(jìn)行表面蛋白質(zhì)原位酶解，不但能看到目標(biāo)蛋白質(zhì)的分布，而且能通過(guò)質(zhì)譜儀直接鑒定蛋白質(zhì)。

聯(lián)系人：張經(jīng)理

聯(lián)系電話：

■ 技術(shù)指標(biāo)

1.應(yīng)用精度：±50μm

2.噴霧分辨率：5760*1440 dpi

3.樣品槽：支持6個(gè)樣品瓶位

4.噴霧速度：大約30秒 (在 5×5 cm2區(qū)域上)

5.自動(dòng)應(yīng)用控制器：定量重復(fù)噴霧

6.板支架：384孔格式板，專用銦錫導(dǎo)電載玻片（ITO slide glass）

7.加熱板：溫度范圍20?50℃

8.壓電式噴霧單元：3 PL /Zui少

■性能

  1.性和均一性：μMatrix Spotter可以將世界地圖上的任何區(qū)域繪制成微斑點(diǎn)的矩陣陣列。

  2.操作簡(jiǎn)單：其軟件直觀的用戶界面可以控制基質(zhì)的數(shù)量、斑點(diǎn)面積以及位置。

  3.可重現(xiàn)性：通過(guò)使用pL-級(jí)壓電式噴霧單元模塊，為矩陣觀察提供各種基質(zhì)溶液的高還原性斑點(diǎn)，如HCCA (L) 和 DHB (R)。

■應(yīng)用：MS成像

  1.小鼠腦組織脂質(zhì)成像

  2.乳腺癌組織的胰蛋白酶消解

     使用μMatrix Spotter對(duì)進(jìn)行胰蛋白酶消解后的乳腺癌組織MALDI-TOF MS。質(zhì)譜成像顯示肽m/z 1213和1396的分布；肽m/z 1213通過(guò)MS/MS分析被識(shí)別為人類Ig α-2 鏈。

  3.發(fā)芽馬鈴薯毒素：使用μMatrix Spotter顯示50通道DHB馬鈴薯芽切片成像。

■μMatrix Spotter

μMatrix Spotter產(chǎn)品特色： 

1.胰蛋白酶溶液和優(yōu)化的溶劑混合液噴涂在組織切片上，可用于MALDI質(zhì)譜成像實(shí)驗(yàn)。

2.μMatrix Spotter的操作軟件可以選擇基質(zhì)打印區(qū)域，從而盡量減少基質(zhì)溶液的使用。

3.通過(guò)壓電式噴霧單元在組織切片上方的垂直“PL”噴霧可實(shí)現(xiàn)打印區(qū)域基質(zhì)的一致性。

4.MALDI MS成像的組織提取物可實(shí)現(xiàn)少量重復(fù)打印控制。重復(fù)數(shù)量和干燥時(shí)間可根據(jù)個(gè)個(gè)實(shí)驗(yàn)的目的進(jìn)行優(yōu)化控制。

5.可同時(shí)打印4個(gè)氧化銦錫載玻片。

 配件

1. 斑點(diǎn)探測(cè)頭           

2. 標(biāo)尺模板

3. 電源線        

4. 靶托      

5. 清潔元件     

6.  樣品瓶     

7. USB線

 應(yīng)用： 

    產(chǎn)品應(yīng)用于蛋白質(zhì)組學(xué)研究，MALDI-TOF MS和表面科學(xué)等領(lǐng)域。制造成本低，為MALDI-TOF MS提供更簡(jiǎn)化、更先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)用具。

1.專業(yè)的質(zhì)譜載樣臺(tái)

·疏水性和親水性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

·基質(zhì)噴霧細(xì)而均勻

·基質(zhì)用量少

·一次性使用

2.μ陣列質(zhì)譜載樣臺(tái)

·均勻密點(diǎn)陣列→HTS專有

·μ焦點(diǎn)技術(shù)→高靈敏性

·一次性使用

·高成像性

4.氧化銦錫涂層質(zhì)譜載玻片

·經(jīng)濟(jì)性，高成像性

·穩(wěn)定的氧化銦錫涂層

·25 x 75 mm, I型或II型

·厚度0.7 mm 和 1.1 mm