真空鍍膜設(shè)備-光學(xué)模壓鏡頭用-韓國(guó)3級(jí)片大全,亞瑟AV亞洲精品一區(qū)二區(qū)メイリン モデルコレクション メイ
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設(shè)備優(yōu)勢(shì)：
PI系列融合了純離子鍍膜技術(shù)(PIC)、離子束清洗技術(shù)(IONBEAM);
本系列標(biāo)配雙腔室結(jié)構(gòu)，更好的滿(mǎn)足高真空鍍膜需求;
配套有更高效的電磁過(guò)濾系統(tǒng)，極好的獲得納米級(jí)超潔凈涂層
專(zhuān)注于超潔凈納米TAC涂層制備，廣泛應(yīng)用于玻璃模壓成型模具表面改性
可鍍10nm-1μm的超級(jí)類(lèi)金剛石Ta-C膜層
裝卸載腔 工藝腔 | 420*500*525(mm) 720*580*550(mm) | 鍍膜范圍 | Φ250mm |
極限真空 | <5x10-5 Pa | 抽氣時(shí)間 | 大氣到6x10-3 <15分鐘 |
應(yīng)用技術(shù) | PIC+IBE | 源類(lèi)型 | 純離子源、陽(yáng)極層離子源、ICP源 |
涂層類(lèi)型 | Ta-C、DLC、金屬氮化物、碳化物 | 生產(chǎn)周期 | 1-3小時(shí)/爐（根據(jù)產(chǎn)品） |
工藝氣體 | Ar、N2、O2、C2H2等 | 外圍尺寸 | L3410*W4328*H2310（mm） |
控制方式 | 上位機(jī)＋PLC，全自動(dòng)控制 | 配套條件 | 循環(huán)水壓力：0.2-0.5MPa |
冷卻純水量：不低于8m3/h | |||
壓縮空氣：0.5-0.75 MPa |
磁過(guò)濾系統(tǒng) , 電磁掃描系統(tǒng) , 制備膜層均勻致密 , 超高硬度 , 無(wú)顆粒
真空鍍膜設(shè)備，PVD鍍膜加工，類(lèi)金剛石涂層加工，磁控濺射鍍膜機(jī)，純離子鍍膜設(shè)備
納米薄膜、機(jī)電一體化、機(jī)電設(shè)備、材料科學(xué)設(shè)備及技術(shù)研發(fā)、設(shè)計(jì)、安裝、維修、服務(wù)及銷(xiāo)售。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)）
安徽純?cè)村兡た萍加邢薰臼怯尚录悠職w國(guó)創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)于2014年創(chuàng)立的高科技公司，坐落于合肥市高新區(qū)習(xí)友路3789號(hào)。主要從事真空納米、微米級(jí)高端鍍膜裝備的設(shè)計(jì)、研發(fā)和制造；并提供多種功能膜層的工藝開(kāi)發(fā)和鍍膜加工服務(wù)。公司目前擁有設(shè)計(jì)、研發(fā)、工藝、市場(chǎng)和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc）、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學(xué)氣相沉積（CVD）等領(lǐng)域都...