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電子元器件PVD真空鍍膜涂層

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工藝
真空離子鍍
服務(wù)項(xiàng)目
PVD涂層加工
鍍膜溫度
~100℃

電子元器件PVD真空鍍膜涂層

電子元器件是電子設(shè)備的核心組成單元。PVD(物理氣相沉積)真空鍍膜涂層技術(shù)憑借高精度、高純度、成分可控及低溫沉積等特性,成為滿足電子元器件“多功能、微型化、高可靠性”需求的關(guān)鍵工藝,可實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電、絕緣、耐磨、抗氧化、電磁屏蔽、光學(xué)調(diào)控等多種功能。

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關(guān)鍵詞

電子元器件產(chǎn)品鍍膜 , PVD真空鍍膜 , 類金剛石涂層 , 真空鍍膜設(shè)備

更新時(shí)間
黃金會(huì)員
第3年
統(tǒng)一社會(huì)信用代碼
91340100394452746Q
成立日期
2014年10月23日
法定代表人
張心鳳
注冊(cè)資本
800
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