主營產(chǎn)品或服務(wù)：靶材;陶瓷靶材;金屬靶材;合金靶材;蒸發(fā)鍍膜料;蒸發(fā)舟;坩堝;基片;晶體材料;粉末材料;sputteringtarget;磁控濺射靶材;高純金屬;氧化物靶材;氟化物靶材;硫化物靶材;半導(dǎo)體材料;貴金屬;太陽能材料

關(guān)鍵詞：鉻靶材 合金靶材 高純靶材 陶瓷靶材 貴金屬 鉻塊 鉻絲 鉻粉 鉻棒濺射靶材

優(yōu)勢產(chǎn)品:
1.磁控濺射靶材（高純單質(zhì)金屬靶材,高純合金靶材,陶瓷靶材,陶瓷復(fù)合靶材,稀土靶材,貴金屬靶材）
2.真空鍍膜料（高純金屬膜料,高純化合物膜料,貴金屬膜料）
3.稀土金屬（蒸餾稀土金屬,還原稀土金屬）
4.鍍膜基片（si硅基片,氧化硅基片,氟化物基片）
5.納米化合物粉末,納米金屬粉末,高純試劑,晶體材料等

mat-cn（國材科技）提供各種金屬靶材，合金及中間合金靶材，陶瓷靶材和其他混合物靶材。

磁控濺射靶材成型方法：

低熔點(diǎn)的材料一般采用真空熔煉后澆鑄成型，材料的成型方式根據(jù)產(chǎn)品性能和客戶的不同要求進(jìn)行選擇。一般金屬和合金材料產(chǎn)品熔點(diǎn)比較低時(shí)，采用真空熔煉后澆鑄，再進(jìn)行鍛軋等工藝消除氣孔，當(dāng)然有效的熱處理細(xì)化晶粒均勻材質(zhì)是非常必要的。

高熔點(diǎn)的材料（或脆性大的材料）采用熱壓，或熱等靜壓成型，也有些采用冷等靜壓成型然后燒結(jié)。本公司提供的各種靶材，密度高，晶粒均勻，使用壽命長等優(yōu)勢。

濺射鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域：

濺射鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，主要用于包裝鍍膜，裝飾鍍膜，建筑玻璃鍍膜、汽車玻璃鍍膜、低輻射玻璃鍍膜，平面顯示器，光通訊/光學(xué)工業(yè)，光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)工業(yè)，光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)工業(yè)，磁數(shù)據(jù)存儲(chǔ)工業(yè)光學(xué)鍍膜，半導(dǎo)體領(lǐng)域，自動(dòng)化，太陽能，醫(yī)療，自潤滑膜層，電容器鍍膜，其它功能性鍍膜等。

背板供應(yīng)，邦定服務(wù)：

國材科技提供各種靶材背板，包括無氧銅，鉬，鋁，不銹鋼等材料。同時(shí)提供靶材與背板的焊接服務(wù)金屬化處理邦定服務(wù)。背板供應(yīng)：無氧銅、鋁、鈦、不銹鋼、鉬背板。
磁控濺射靶材分類：

1.金屬濺射鍍膜靶材(單質(zhì)金屬靶材，超高純金屬靶材)：

工藝一般采用熔煉和粉末冶金的方法制作，然后進(jìn)行鍛造，軋制，熱處理，機(jī)械加工等工藝。我公司完成的各類金屬靶材產(chǎn)品，選材適當(dāng)，材質(zhì)均勻，晶粒細(xì)小，品質(zhì)穩(wěn)定，價(jià)格合理。我公采用先進(jìn)的冷坩堝磁懸浮技術(shù)，熔煉靶材純度Zui高達(dá)到99.999%，冶煉過程中完全避免了污染現(xiàn)象。尺寸規(guī)格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤600mm，厚度≥1mm）矩形靶，薄片靶，臺階片靶(長度≤1000mm， 寬度≤600mm， 厚度≥1mm)環(huán)狀靶，管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >2mm)（點(diǎn)擊進(jìn)入詳細(xì)參數(shù)列表）金屬鋁，金屬銻，金屬鉍，金屬鎘，硼靶材，碳靶材，熱解石墨靶材，稀土金屬鈰，金屬鉻靶材，金屬鈷，金屬銅，稀土金屬鏑，稀土金屬鉺，稀土金屬銪，屬鎳，難熔金屬鈮，貴金屬鈀，貴金屬鉑，金屬鐠，金屬錸，貴金屬釕，金屬釤，硒靶材，金屬鈧，金屬銀靶材，金屬硅，稀土金屬釓，半導(dǎo)體鍺，黃金靶材，金屬鉿，稀土金屬鈥，金屬銦，金屬銥靶材，金屬鐵，金屬鑭，金屬镥，金屬鎂，金屬錳靶材，難熔金屬鉬，稀土金屬釹，金難熔金屬鉭，稀土金屬銩，金屬錫，金屬鈦，難熔金屬鎢，金屬釩，稀土金屬鐿，稀土金屬釔，金屬鋯，金屬鋅。

2.合金靶材，中間合金靶材：

合金及中間合金靶材工藝一般采用熔煉和粉末冶金的方法制作，然后進(jìn)行鍛造，軋制，熱處理，機(jī)械加工等工藝。每種合金一般擁有特殊的性能，國材科技合金靶材制作工藝精良，品質(zhì)優(yōu)異，價(jià)格合理。尺寸規(guī)格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤600mm，厚度≥1mm）矩形靶，薄片靶，臺階片靶(長度≤1000mm， 寬度≤600mm， 厚度≥1mm)管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >2mm)合金濺射鍍膜靶材鋁銅合金 (al-cu)，鋁就鉻合金(al-cr)，鋁鎂合金(al-mg)，鋁硅合金 (al-si)，鋁銀合金(al-ag)，鈰釓合金 (ce-gd)，鈰釤合金 (ce-sm)，銀銅合金(ag-cu)，銀錫合金(ag-sn)，鉭鋁合金(ta-al)，鋱鏑鐵合金(tbdyfe)，鋱鐵合金(tbfe)，鈦鋁合金靶材(tial)，鈦鎳合金 (tini)，鈦鉻合金(ticr)，鎢錸合金(wre)，鎢鈦合金(wti)，鋯鋁合金(zral)，鋯鐵合金 (zr-fe)，鋯鎳合金(zr-ni)，鋯鈮合金(zrnb)，鋯鈦合金(zrti)，鋯釔合金(zry)，鋅鋁合金(znal)，鉻硅合金(cr-si)，鈷鉻合金 (co-cr)，鈷鐵合金(co-fe)，鈷鐵硼合金(co-fe-b)，銅鈷合金(cu/co)，銅鎵合金(cu-ga)，銅銦合金(cuin)，銅鎳合金(cu-ni)，銅鋯合金（cu-zr)，鉿鐵合金(hffe)，鐵硼合金 (fe-b)，鐵碳合金(fe-c)，鐵錳合金 (fe-mn)，銥錳合金(ir-mn)，銥錸合金(ir-re)，銦錫合金 (in-sn)，鉬硅合金(mo-si)，鎳鋁合金(ni-al)，鎳鉻合金 (ni-cr)，鎳鉻硅合金 (ni-cr-si)，鎳鐵合金(ni-fe)，鎳鈮鈦合金 (ninbti)，鎳鈦合金 (ni-ti)，鎳釩合金 (ni-v)，釤鈷合金(sm-co)，鋅鎂合金(znmg)。

3.陶瓷靶材，金屬化陶瓷靶材：

一般采用熔融和粉末冶金的方法制作尺寸規(guī)格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤300mm，厚度≥1mm） 矩形靶，薄片靶，臺階片靶(長度≤600mm， 寬度≤300mm， 厚度≥2mm)管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >3mm )（點(diǎn)擊進(jìn)入詳細(xì)參數(shù)列表）硼化物陶瓷濺射靶材硼化二鉻 (cr2b)，硼化鉻 (crb)，二硼化鉻 (crb2)，三硼化五鉻(cr5b3)， 硼化鐵 (feb)，二硼化鉿陶瓷靶材 (hfb2)，六硼化鑭 (lab6)，硼化二鉬 (mo2b)，碳化二鎢(w2c)，碳化釩 (vc)，碳化鋯 (zrc)氮化物陶瓷濺射靶材 氮化鋁陶瓷靶材 (aln)，氮化硼陶瓷靶材(bn)，氮化鎵陶瓷靶材(gan)，氮化鉿陶瓷靶材(hfn)，氮化鈮陶瓷靶材 (nbn)，氮化硅陶瓷靶材(si3n4)，氮化鉭陶瓷靶材 (tan)，氮化鈦陶瓷靶材 (tin)，氮化釩陶瓷靶材(vn)，氮化鋯陶瓷靶材 (zrn)。氟化物陶瓷濺射靶材 氟化鋁(alf3)，氟化鋇 (baf3)，氟化鎘 (cdf2)，氟化鈣(caf2)，氟化鈰 (cef3)，氟化鏑 (dyf3)，氟化鉺(erf3)，氟化鉿 (hff4)，氟化鉀 (kf)，氟化鑭(laf3)，氟化鉛(pbf2)，五硼化二鉬 (mo2b5)，硼化鈮 (nbb)，二硼化鈮(nbb2)，硼化鉭 (tab)，tantalum boride (tab2)，二硼化鈦(tib2)，硼化二鎢 (w2b)，硼化鎢(wb)，硼化釩 (vb)，二硼化釩 (vb2)，二硼化鋯 (zrb2) 。 碳化物陶瓷濺射靶材碳化四硼(b4c)，二碳化三鉻(cr3c2)，碳化鉿(hfc)，碳化二鉬 (mo2c)，碳化鈮 (nbc)，碳化硅陶瓷靶材 (sic)，碳化鉭(tac)，碳化鈦(tic)，碳化鎢 (wc)，氟化鋰(lif)，氟化鐠(prf3)，氟化鎂(mgf2)，氟化釹 (ndf3)，氟化釤(smf3)，氟化鈉（naf)，鋁氟酸鈉(冰晶石)靶材(na3alf6)，氟化鍶(srf2)，氟化釷 (thf4)，氟化釔(yf3)，氟化鐿(ybf3)。氧化物陶瓷濺射靶材氧化鋁(al2o3)，氧化銻(sb2o3)，氧化銻摻錫(ato)，鈦酸鋇(batio3)，氧化鉍(bi2o3)，氧化鈰(ceo2)，氧化銅(cuo)，氧化鉻(cr2o3)，氧化鏑(dy2o3)，氧化鉺(er2o3)，氧化鉺(eu2o3)，氧化釓(gd2o3)，氧化鎵(ga2o3)，氧化鍺geo2)，二氧化鉿(hfo2)，氧化鈥(ho2o3)，氧化銦(in2o3)，氧化銦錫(ito)，三氧化二鐵(fe2o3)，四氧化三鐵(fe3o4)，氧化鑭(la2o3)，鈦酸鉛(pbtio3)，鋯酸鉛(pbzro3)，鈮酸鋰(linbo3)，鐵酸镥(lu3fe5o12)，氧化镥(lu2o3)，氧化鎂(mgo)，氧化鉬(moo3)，氧化釹(nd2o3)，氧化鐠(pr6o11)，鈦酸鐠(pr(tio2)2)，氧化鐠(pr2o3)，氧化釤(sm2o3)，氧化鈧(sc2o3)，二氧化硅(sio2)，一氧化硅(sio)，鈦酸鍶(srtio3)，鋯酸鍶(srzro3)，五氧化二鉭(ta2o5)，氧化鋱(tb4o7)，氧化碲(teo2)，氧化釷(tho2)，氧化銩(tm2o3)，二氧化鈦(tio2)，一氧化鈦(tio)，五氧化三鈦(ti3o5)，三氧化二鈦陶瓷靶材(ti2o3)，二氧化錫(sno2)，一氧化錫(sno)，三氧化鎢(wo3)，五氧化二釩(v2o5)，釔鋁石榴石(yag)y3al5o12，三氧化二鐿(yb2o3)，氧化釔(y2o3)，氧化鋅(zno)，摻鋁氧化鋅(zno:al)，氧化鋯(zro2)(未摻雜)，氧化鈣穩(wěn)定氧化鋯(zro2-5-15wt%cao)，氧化釔穩(wěn)定氧化鋯（zro2：y2o3)，azo靶材，ito靶材，ato靶材，ysz靶材。硒化物陶瓷濺射靶材硒化鉍陶瓷靶材(bi2se3)， 硒化鎘濺射靶材 (cdse)，硒化銦濺射靶材 (in2se3)，硒化鉛濺射靶材 (pbse)，硒化鉬濺射靶材(mose2)，硒化鈮濺射靶材 (nbse2)，硒化鉭濺射靶材 (tase2)，硒化鎢濺射靶材 (wse2)，硒化鋅濺射靶材(znse)。硅化物陶瓷濺射靶材硅化三鉻陶瓷濺射靶材 (cr3si)，二硅化鉻陶瓷濺射靶材(crsi2)，二硅化鈷陶瓷靶材(cosi2)， 二硅化鉿陶瓷靶材 (hfsi2)，二硅化鉬陶瓷靶材(mosi2)，二硅化鈮陶瓷靶材(nbsi2)，二硅化鉭陶瓷靶材 (tasi2)，三硅化五鉭陶瓷靶材(ta5si3)，二硅化鈦陶瓷靶材(tisi2)，三硅化五鈦陶瓷靶材(ti5si3)，二硅化鎢陶瓷靶材(wsi2)，硅化三釩陶瓷靶材(v3si)，二硅化釩陶瓷靶材(vsi2)，二硅化鋯陶瓷靶材 (zrsi2)。硫化物陶瓷濺射靶材硫化銻陶瓷靶材(sb2s3)，硫化砷陶瓷靶材(as2s3)，硫化鎘陶瓷靶材 ( cds)，硫化鐵陶瓷靶材 (fes)，硫化鉛陶瓷靶材(pbs)，硫化鉬陶瓷靶材(mos2)，硫化鈮陶瓷靶材(nbs1.75)，硫化鉭陶瓷靶材(tas2)，硫化鎢陶瓷靶材(ws2)，硫化鋅陶瓷靶材 (zns)。碲化物陶瓷濺射靶材 碲化鎘陶瓷靶材 (cdte)，碲化鉛陶瓷靶材(pbte)，碲化鉬陶瓷靶材 (mote2)，碲化鈮陶瓷靶材 (nbte2)，碲化鉭陶瓷靶材 (tate2)，碲化鎢陶瓷靶材(wte2)，碲化鋅陶瓷靶材 (znte)，碲化銦陶瓷靶材(inte)。其他陶瓷靶材摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(cr-sio)，磷化銦靶材(inp)，砷化鉛靶材(pbas)，砷化銦靶材(inas)，azo靶材，ito靶材，ato靶材，ysz靶材，lsmo靶材，lcmo靶，ybco靶材，ybc靶材。

4.其他混合物靶材，特殊成分靶材，客戶訂制靶材：

可以根據(jù)客戶需求，經(jīng)可行性分析后，進(jìn)行特殊成分的實(shí)驗(yàn)，試制，生產(chǎn)等活動(dòng)，國材科技對客戶所有特殊需求進(jìn)行保密。尺寸規(guī)格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤300mm，厚度≥1mm） 矩形靶，薄片靶，臺階片靶(長度≤1200mm， 寬度≤300mm， 厚度≥1mm)管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >2mm)