·PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。

 基本方法：真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

 離子鍍膜技術(shù)具有：鍍膜層致密均勻、附著力強(qiáng)、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點(diǎn)。表面細(xì)膩光滑并富有金屬光澤同時(shí)顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

  純?cè)村兡VD鍍膜產(chǎn)品：

·水電鍍：是一個(gè)電化學(xué)的過程，利用正負(fù)電極，加以電流在鍍槽中進(jìn)行，鍍金，鍍銀，鍍鎳，鍍鉻，鍍鎘等。分為電鍍和化學(xué)鍍兩種，電鍍一般作為裝飾性表面，因?yàn)橛懈吡炼龋瘜W(xué)鍍的表面比較灰暗，一般作為防腐蝕涂層。電鍍時(shí),鍍層金屬做陽極,被氧化成陽離子進(jìn)入電鍍液；待鍍的金屬制品做陰極,鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層.為排除其它陽離子的干擾,且使鍍層均勻、牢固,需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液,以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。

· 噴涂：涂鍍，又稱為刷鍍或無槽電鍍，是在金屬工件表面局部快速電化學(xué)沉積金屬的技術(shù)，其在原理和本質(zhì)都屬于電化學(xué)加工中電鍍工藝的范籌。是和電解相反，利用電鍍液中金屬離子在電場(chǎng)的作用下，鍍覆沉積到陰極上去的加工過程。

（資料來源：https://mp./s?src=11&timestamp=1715652255&ver=5259&signature=jS5u0NztbHMC6BBhxZhxsFwfC97*HwU*G-Pb0HP5UfuKeDSzMo85eodXXCYnaxf-1veggAiSetU6FY9ZKHSoM89apmXDvA&new=1）