一、紫外光清洗的原理和特點：
 1、光清洗技術(shù)是利用有機化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度”，是一種“干洗”方式，可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。
  2、可徹底清除物體表面的碳和有機污染物。
  3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。
  4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。
  5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致。

 

  1、高效快速清洗

    有為172nm準(zhǔn)分子紫外燈能發(fā)出窄譜(10nm)的單色真空紫外光，具有極快的反應(yīng)速率，清洗速率比用低壓汞燈快10倍以上，對玻璃的清洗效率，是目前清洗制程的主流。

  2、低溫加工過程

    由于不產(chǎn)生紅外譜線，且因加工時間極短，所以對被加工對象幾乎不產(chǎn)生加熱效應(yīng)。

  3、節(jié)能環(huán)保

   沒有自吸收現(xiàn)象，電光轉(zhuǎn)化效率高達(dá)40%，因而產(chǎn)生很高的光強只需消耗很低的電能，且沒有使用汞燈所帶來的廢舊回收處理問題。

  4、瞬間開啟和熄滅

    可根據(jù)需要發(fā)射所需光能，且能隨時瞬間開啟熄滅，不需要用快門。

  5、安裝角度靈活方便

    有為光子發(fā)生器可根據(jù)需要加工不同空間角度的被加工物，很容易整合進(jìn)入現(xiàn)有的生產(chǎn)線，安裝簡便、替換性好。

 

    主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法Zui為合適。

    主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。