v液體光致抗蝕劑感光的有效波長為300—400nm，因此對干膜和液體光致阻焊劑進(jìn)行曝

光的設(shè)備亦可適用于濕膜曝光，曝光量100—300mJ／平方里米。

v

因為烘烤后膜層的硬度還不足1H，因此曝光對位時需特別小心，以防劃傷。雖對濕膜適用

的曝光量范圍較寬，但為了增加膜層的抗蝕和抗電鍍能力，以取高限曝光為宜。其感光速度與干膜相比要慢得多，所以要使用高功率曝光機(jī)。

v

當(dāng)曝光過度時，正相導(dǎo)線圖形易形成散光側(cè)蝕，造成線寬減小，反之負(fù)相導(dǎo)線圖形形成散光擴(kuò)大，線寬增加。當(dāng)曝光不足時，膜層上出現(xiàn)、砂眼等缺陷。

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2、與單片集成電路的比較

?由于用于設(shè)計和工模具的固定成本更低，適合于中小批量產(chǎn)品生產(chǎn)。

?設(shè)計更改容易。

?出樣周期短，能盡快投產(chǎn)。

?可選用元器件(基片和外貼元器件)，例如；±0．1％電阻器、 ± 1％電容器、低TCR齊 納二極管。

?能將不同工藝的元器件混合組裝，使設(shè)計靈活性更好。

?允許返工，便于以合理的成品率生產(chǎn)復(fù)雜的電路，并且允許適當(dāng)?shù)姆敌蕖?br>

4.       電位器">電位器的主要參數(shù)

　　電位器">電位器的主要參數(shù)有標(biāo)稱阻值、額定功率、分辨率、滑動噪聲、阻值變化特性、耐磨性、零位電阻及溫度系數(shù)等。{{分頁}}

(1)    電位器">電位器的標(biāo)稱阻值和額定功率

①     電位器">電位器上標(biāo)注的阻值叫標(biāo)稱阻值。

②        電位器">電位器的額定功率是指在直流或交流電路中，當(dāng)大氣壓為87~107kPa，在規(guī)定的額定溫度下長期連續(xù)負(fù)荷所允許消耗的功率。線繞和非線繞電位器">電位器的額定功率系列入表2所示。

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