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- 品牌
- KRI
- 型號
- RFICP 140
- 產(chǎn)地
- 美國
KRI 射頻離子源 RFICP 140
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源,非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中,射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材,實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務. 就標準的型號而言,可以在離子能量為 100~1200 eV 范圍內(nèi)獲得很高的離子密度. 可以輸出*大 600 mA 離子流.
KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術參數(shù):
陽極
電感耦合等離子體
1kW & 1.8 MHz
射頻自動匹配
*大陽極功率
1kW
*大離子束流
> 500mA
電壓范圍
100-1200V
離子束動能
100-1200eV
氣體
Ar, O2, N2,其他
流量
5-40sccm
壓力
< 0.5mTorr
離子光學, 自對準
OptiBeamTM
離子束柵極
14cm Φ
柵極材質(zhì)
鉬, 石墨
離子束流形狀
平行,聚焦,散射
中和器
LFN 2000
高度
25.1 cm
直徑
24.6 cm
鎖緊安裝法蘭
12”CF
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