公司開發(fā)的多晶硅還原爐是用于生產(chǎn)多晶硅主流技術(shù)路線“改良西門子法——閉環(huán)式三氯氫硅氫還原法”中進(jìn)行cvd反應(yīng)生產(chǎn)高純多晶硅的主體設(shè)備。

我們目前開發(fā)的多晶硅還原爐是鐘罩式12對棒還原爐，主要由底盤、含夾套冷卻水的鐘罩式雙層爐體、電極、視鏡孔、混和氣進(jìn)氣管、混和氣尾氣出氣管、爐體冷卻水進(jìn)水管、爐體冷卻水出水管、底盤冷卻水進(jìn)水管、底盤冷卻水出水管、電極冷卻水進(jìn)水管、電極冷卻水出水管及其他附屬部件組成。

爐體主體采用不銹鋼材質(zhì)sus316l且進(jìn)行拋光處理（增強(qiáng)爐內(nèi)熱量漫反射，減少熱輻射，節(jié)省能源），以減少設(shè)備材質(zhì)對產(chǎn)品的污染。

爐體外夾套采用不銹鋼材質(zhì)sus304，用來通冷卻水或?qū)嵊?，帶走反?yīng)放出的熱量。

底盤采用不銹鋼材質(zhì)sus316l，底盤也有夾層，用來通入冷卻水，以保護(hù)密封墊圈。電極由導(dǎo)電性能較好的優(yōu)質(zhì)紫銅材料制成，經(jīng)過特殊設(shè)計、工藝處理，內(nèi)部通過冷卻水進(jìn)行冷卻，電極與載體用石墨夾頭進(jìn)行連接。

混和氣進(jìn)氣管分為9個噴口（其中8個噴口均勻的設(shè)置在底盤上），在還原爐底盤上分二個圓周均勻布置12對電極，Zui外一周布置8對電極，Zui內(nèi)一周布置4對電極，該種設(shè)計使還原爐內(nèi)部結(jié)構(gòu)布局合理，單臺爐每批次產(chǎn)量較現(xiàn)有還原爐有大幅度的提升，多晶硅的綜合生產(chǎn)成本和能耗也相應(yīng)降低。

本公司經(jīng)營多晶硅還原爐，質(zhì)量保證，歡迎咨詢洽談。