超聲清洗是超聲波的主要應(yīng)用之一，與其他清洗相比，超聲清洗具有效率高、質(zhì)量好，可清洗復(fù)雜零件、深孔、盲孔及狹縫中的污物，且易于實(shí)現(xiàn)清洗自動(dòng)化等特點(diǎn)。目前，超聲波清洗機(jī)生產(chǎn)企業(yè)已從20世紀(jì)90年代初的幾家發(fā)展到現(xiàn)在的幾百多家。隨著我國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)進(jìn)一步發(fā)展，它必定成為許多工業(yè)、醫(yī)療、環(huán)保等部門(mén)不可缺少的一種工藝手段。

超聲波清洗機(jī)的工作頻率根據(jù)清洗對(duì)象，大致分為三個(gè)頻段：低頻超聲清洗(20～50kHz)，高頻超聲清洗(50～200kHz)和兆赫超聲清洗(700k～1MHz以上)。低頻超聲清洗適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結(jié)合強(qiáng)度高的場(chǎng)合。頻率的低端，空化強(qiáng)度高，易腐蝕清洗件表面，不適宜清洗表面光潔度高的部件，而且空化噪聲大。40kHz左右的頻率，在相同聲強(qiáng)下，產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為20kHz時(shí)多，穿透力較強(qiáng)，但空化強(qiáng)度較低，宜清洗表面形狀復(fù)雜或有盲孔的工件和清洗污物與被清洗件表面結(jié)合力較弱的部件，并且空化噪聲較小。高頻超聲清洗適用于微電子元件的精細(xì)清洗，如磁盤(pán)、驅(qū)動(dòng)器、讀寫(xiě)頭、液晶玻璃、平面顯示器、微組件和拋光金屬件等。這些清洗對(duì)象要求在清洗過(guò)程中不能受到空化腐蝕，而且能夠洗掉微米級(jí)的污物。兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及薄膜等的清洗，要求能去除微米、亞微米級(jí)的污物而對(duì)清洗件沒(méi)有任何損傷。因?yàn)榇藭r(shí)不產(chǎn)生空化，其清洗機(jī)理主要是聲壓梯度、粒子速度和聲流的作用。特點(diǎn)是清洗方向性強(qiáng)，被清洗件一般置于與聲束平行的方向。按照清洗介質(zhì)劃分可以分為常規(guī)清洗和氣相超聲清洗。常規(guī)清洗是指采用常規(guī)的不會(huì)大規(guī)模揮發(fā)的清洗溶劑，例如：水、水基清洗劑、清洗用的部分石油制成品等。常用的與超聲結(jié)合的清洗手段有高溫浸泡、鼓泡、噴淋等；烘干方式一般采用熱風(fēng)烘干、離心烘干等。氣相清洗一般采用易揮發(fā)的清洗溶劑，如氟利昂、三氯乙烯、三氯乙烷等，它們清洗油污的能力特別強(qiáng)，但是沸點(diǎn)較低，使用中一般配置冷凝回收系統(tǒng)。常用的與超聲結(jié)合的清洗手段有熱浸、噴淋、蒸汽浴洗等；烘干方式一般采用冷凍干燥。