韓國(guó)蔚山科學(xué)技術(shù)院（UNIST）崔文基教授團(tuán)隊(duì)聯(lián)合大邱慶北科學(xué)技術(shù)院（DGIST）楊智勇教授團(tuán)隊(duì)及基礎(chǔ)科學(xué)研究院（IBS）納米粒子研究中心金大炯副教授團(tuán)隊(duì)，于9月14日成功開發(fā)出高性能可拉伸量子點(diǎn)發(fā)光二極管（QLED）。相關(guān)成果已發(fā)表于國(guó)際納米技術(shù)期刊《自然·納米技術(shù)》（Nature Nanotechnology）在線版。

現(xiàn)有可拉伸顯示設(shè)備多采用“像素固定、僅線路拉伸”的設(shè)計(jì)，屏幕放大時(shí)有效發(fā)光面積縮小導(dǎo)致畫質(zhì)急劇下降。后續(xù)嘗試直接采用柔性材料制作像素，卻受限于材料特性難以精細(xì)圖案化且阻礙電荷傳輸，亮度長(zhǎng)期停留在15,000尼特以下。研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)LIFT工藝（結(jié)合界面配體交換與凹版轉(zhuǎn)移印刷）攻克上述難題。該工藝將量子點(diǎn)發(fā)光層表面與彈性聚合物結(jié)合的長(zhǎng)絕緣分子替換為短配體MPA，在Zui大化電荷注入效率的同時(shí)增強(qiáng)與凹版模具的附著力，防止納米薄膜拉伸或暈染。

借助該工藝，團(tuán)隊(duì)制備出線寬約700納米、分辨率約16,000 PPI的超高分辨率精細(xì)圖案，并通過(guò)精準(zhǔn)排布紅綠藍(lán)發(fā)光層構(gòu)建了穩(wěn)定的全彩像素陣列。該可拉伸QLED在拉伸至原尺寸1.65倍的過(guò)程中未出現(xiàn)機(jī)械損傷，發(fā)光性能保持穩(wěn)定，Zui高亮度達(dá)到53,300尼特，超過(guò)此前同類可拉伸發(fā)光器件3倍以上，創(chuàng)下全球紀(jì)錄。

研究團(tuán)隊(duì)表示，該技術(shù)有望廣泛應(yīng)用于下一代柔性電子設(shè)備，包括可穿戴健康監(jiān)測(cè)設(shè)備、電子皮膚、軟體機(jī)器人、自由曲面車載顯示屏及擴(kuò)展現(xiàn)實(shí)（XR）設(shè)備等?！拔覀兺瑫r(shí)解決了分辨率下降和發(fā)光性能受限這兩大可拉伸顯示領(lǐng)域的Zui大挑戰(zhàn)，掌握了商業(yè)化核心工藝?！贝尬幕淌谥赋?，該成果將成為各類下一代柔性器件制造的重要平臺(tái)技術(shù)。